超純水設備凈化法流程描述

超純水設備凈化法流程描述

　　電子、半導體工業的芯片生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。此外，晶元清洗和機械碾磨過程中都會產生廢水，造成對環境的污染。
　　通過使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統來生產滿足需求的超純水。并將生產過程中所產生的廢水經過膜系統的處理進行回收再利用，在很大程度上減少了電子、半導體行業的用水量、降低了生產成本。
　　微電子行業包括了電解電容器生產、電子管生產、顯像管和陰極射線管生產、黑白顯像管熒光屏生產、液晶顯示器的生產、晶體管生產、集成電路生產、電子新材料生產等生產工藝，都需要工業超純水。傳統化學及介質過濾生產超純水的方法，會因在水中添加各種化學劑，制備過程冗長等各種因素造成產水的不穩定，無法確保長期、穩定的超純水。
　　采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床)，使超純水設備從傳統的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發生了一次革命，從此進入了一個無需再生化學品的時代。膜法制備出來的工業純水，其純度可達到18MΩ·CM，且系統穩定，使用壽命長，且生產過程所產生的廢水又可回用再生。
 

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